Tag: ibm
Niebawem 8 rdzeni od IBM
2008-07-15 00:05:00| Gery.pl
IBM zamierza przeprowadzić ofensywę na rynku procesorów serwerowych za sprawą swojego najnowszego układu Power7. Zapowiadany na 2010 rok procesor zbudowany zostanie w oparciu o 45nm architekturę i będzie się składać aż z ośmiu rdzeni, a każdy z nich będzie mógł obsłużyć cztery wątki jednocześnie. Całość ma być taktowana zegarem 4GHz, a moc obliczeniowa tego monstrum ma sięgać 256 GigaFlops. Do sprzedaży trafi jednak moduł składający się z dwóch takich procesorów połączonych w jednej obudowie o mocy 512 GigaFlops. IBM przygotowuje również wersję serwerową modułu wielkości 2U składającego się z czterech modułów procesorowych obsługujących 128GB pamięci RAM i wydajności 2 TeraFlopy. Jeżeli ktoś nadal poczuje niedosyt, będzie mógł zamówić serwer składający się w sumie z 1024 rdzeni Power7 i mocy 24 TeraFlopów.
2008-03-18 01:59:00| Gery.pl
IBM zaprezentował swój pomysł na zwiększenie przepustowości interfejsów łączących między innymi rdzenie w procesorach. Obecnie do przenoszenia informacji wykorzystywane są elektrony, które podczas poruszania wydzielają ciepło, a ponadto są relatywnie wolne w stosunku do prędkości światła. Wykorzystanie fotonów, czyli właśnie 'cząsteczek światła' proponuje IBM, który zaprezentował miniaturowy układ zarządzający taką komunikacją. Zaprezentowany przełącznik ma sprawić, że produkowane z jego użyciem układy będą potrzebowały zaledwie 10% energii dzisiejszych procesorów, a przy tym zaoferują nawet 100 raz większą przepustowość sięgającą 1Tbps. Rzeczone urządzenie jest tak małe, że na 1 mm2 mieści się 2000 takich układów. Pozostaje pytanie, kiedy to rozwiązanie będzie miało szanse znaleźć rzeczywiste zastosowanie? IBM niestety nie podaje żadnych dat.
2008-02-27 03:16:00| Gery.pl
EUV lithography, czyli Extreme Ultra-Violet lithography to nowa technologia produkcji uk?adów scalonych, która b?dzie musia?a zosta? wprowadzona do u?ytku je?li przysz?e tranzystory maj? osi?gn?? wymiary rz?du 22 czy 16 nanometrów. Obecnie stosowany proces fotolitografii wykorzystuje ?wiat?o UV o d?ugo?ci 193 nm, co dzi?ki odpowiednim zabiegom pozwala na produkowanie mikroprocesorów w wymiarze 45 nm i zapewne pozwoli równie? na zej?cie do 32 nm. Kolejna bariera mo?e wymaga? jednak zastosowania w?a?nie technologii EUV, która wykorzystuje fale o d?ugo?ci zaledwie 13.5 nm. Zademonstrowany przez AMD i IBM uk?ad to procesor AMD wykonany w wymiarze technologicznym 45 nm. Wed?ug przewidywa? obu firm, pierwsze uk?ady produkowane przy u?yciu EUV w wymiarze technologicznym 22 nm powinny pojawi? si? w okolicach 2016 roku. Intel prowadzi osobne badania nad t? technologi?.
2008-02-27 03:16:00| Gery.pl
EUV lithography, czyli Extreme Ultra-Violet lithography to nowa technologia produkcji uk?adów scalonych, która b?dzie musia?a zosta? wprowadzona do u?ytku je?li przysz?e tranzystory maj? osi?gn?? wymiary rz?du 22 czy 16 nanometrów. Obecnie stosowany proces fotolitografii wykorzystuje ?wiat?o UV o d?ugo?ci 193 nm, co dzi?ki odpowiednim zabiegom pozwala na produkowanie mikroprocesorów w wymiarze 45 nm i zapewne pozwoli równie? na zej?cie do 32 nm. Kolejna bariera mo?e wymaga? jednak zastosowania w?a?nie technologii EUV, która wykorzystuje fale o d?ugo?ci zaledwie 13.5 nm. Zademonstrowany przez AMD i IBM uk?ad to procesor AMD wykonany w wymiarze technologicznym 45 nm. Wed?ug przewidywa? obu firm, pierwsze uk?ady produkowane przy u?yciu EUV w wymiarze technologicznym 22 nm powinny pojawi? si? w okolicach 2016 roku. Intel prowadzi osobne badania nad t? technologi?.
2008-02-27 03:16:00| Gery.pl
EUV lithography, czyli Extreme Ultra-Violet lithography to nowa technologia produkcji uk?adów scalonych, która b?dzie musia?a zosta? wprowadzona do u?ytku je?li przysz?e tranzystory maj? osi?gn?? wymiary rz?du 22 czy 16 nanometrów. Obecnie stosowany proces fotolitografii wykorzystuje ?wiat?o UV o d?ugo?ci 193 nm, co dzi?ki odpowiednim zabiegom pozwala na produkowanie mikroprocesorów w wymiarze 45 nm i zapewne pozwoli równie? na zej?cie do 32 nm. Kolejna bariera mo?e wymaga? jednak zastosowania w?a?nie technologii EUV, która wykorzystuje fale o d?ugo?ci zaledwie 13.5 nm. Zademonstrowany przez AMD i IBM uk?ad to procesor AMD wykonany w wymiarze technologicznym 45 nm. Wed?ug przewidywa? obu firm, pierwsze uk?ady produkowane przy u?yciu EUV w wymiarze technologicznym 22 nm powinny pojawi? si? w okolicach 2016 roku. Intel prowadzi osobne badania nad t? technologi?.
Strony : [1] [2] [3] [4] [5] [6] [7] [8] [9] [10] [11] [12] następna »