Tag: ibm
AMD i IBM ju? testuj? fotolitografie EUV
2008-02-27 03:16:00| Gery.pl
EUV lithography, czyli Extreme Ultra-Violet lithography to nowa technologia produkcji uk?adów scalonych, która b?dzie musia?a zosta? wprowadzona do u?ytku je?li przysz?e tranzystory maj? osi?gn?? wymiary rz?du 22 czy 16 nanometrów. Obecnie stosowany proces fotolitografii wykorzystuje ?wiat?o UV o d?ugo?ci 193 nm, co dzi?ki odpowiednim zabiegom pozwala na produkowanie mikroprocesorów w wymiarze 45 nm i zapewne pozwoli równie? na zej?cie do 32 nm. Kolejna bariera mo?e wymaga? jednak zastosowania w?a?nie technologii EUV, która wykorzystuje fale o d?ugo?ci zaledwie 13.5 nm. Zademonstrowany przez AMD i IBM uk?ad to procesor AMD wykonany w wymiarze technologicznym 45 nm. Wed?ug przewidywa? obu firm, pierwsze uk?ady produkowane przy u?yciu EUV w wymiarze technologicznym 22 nm powinny pojawi? si? w okolicach 2016 roku. Intel prowadzi osobne badania nad t? technologi?.
2008-02-27 03:16:00| Gery.pl
EUV lithography, czyli Extreme Ultra-Violet lithography to nowa technologia produkcji uk?adów scalonych, która b?dzie musia?a zosta? wprowadzona do u?ytku je?li przysz?e tranzystory maj? osi?gn?? wymiary rz?du 22 czy 16 nanometrów. Obecnie stosowany proces fotolitografii wykorzystuje ?wiat?o UV o d?ugo?ci 193 nm, co dzi?ki odpowiednim zabiegom pozwala na produkowanie mikroprocesorów w wymiarze 45 nm i zapewne pozwoli równie? na zej?cie do 32 nm. Kolejna bariera mo?e wymaga? jednak zastosowania w?a?nie technologii EUV, która wykorzystuje fale o d?ugo?ci zaledwie 13.5 nm. Zademonstrowany przez AMD i IBM uk?ad to procesor AMD wykonany w wymiarze technologicznym 45 nm. Wed?ug przewidywa? obu firm, pierwsze uk?ady produkowane przy u?yciu EUV w wymiarze technologicznym 22 nm powinny pojawi? si? w okolicach 2016 roku. Intel prowadzi osobne badania nad t? technologi?.
2008-02-27 03:16:00| Gery.pl
EUV lithography, czyli Extreme Ultra-Violet lithography to nowa technologia produkcji uk?adów scalonych, która b?dzie musia?a zosta? wprowadzona do u?ytku je?li przysz?e tranzystory maj? osi?gn?? wymiary rz?du 22 czy 16 nanometrów. Obecnie stosowany proces fotolitografii wykorzystuje ?wiat?o UV o d?ugo?ci 193 nm, co dzi?ki odpowiednim zabiegom pozwala na produkowanie mikroprocesorów w wymiarze 45 nm i zapewne pozwoli równie? na zej?cie do 32 nm. Kolejna bariera mo?e wymaga? jednak zastosowania w?a?nie technologii EUV, która wykorzystuje fale o d?ugo?ci zaledwie 13.5 nm. Zademonstrowany przez AMD i IBM uk?ad to procesor AMD wykonany w wymiarze technologicznym 45 nm. Wed?ug przewidywa? obu firm, pierwsze uk?ady produkowane przy u?yciu EUV w wymiarze technologicznym 22 nm powinny pojawi? si? w okolicach 2016 roku. Intel prowadzi osobne badania nad t? technologi?.
2008-02-27 03:16:00| Gery.pl
EUV lithography, czyli Extreme Ultra-Violet lithography to nowa technologia produkcji uk?adów scalonych, która b?dzie musia?a zosta? wprowadzona do u?ytku je?li przysz?e tranzystory maj? osi?gn?? wymiary rz?du 22 czy 16 nanometrów. Obecnie stosowany proces fotolitografii wykorzystuje ?wiat?o UV o d?ugo?ci 193 nm, co dzi?ki odpowiednim zabiegom pozwala na produkowanie mikroprocesorów w wymiarze 45 nm i zapewne pozwoli równie? na zej?cie do 32 nm. Kolejna bariera mo?e wymaga? jednak zastosowania w?a?nie technologii EUV, która wykorzystuje fale o d?ugo?ci zaledwie 13.5 nm. Zademonstrowany przez AMD i IBM uk?ad to procesor AMD wykonany w wymiarze technologicznym 45 nm. Wed?ug przewidywa? obu firm, pierwsze uk?ady produkowane przy u?yciu EUV w wymiarze technologicznym 22 nm powinny pojawi? si? w okolicach 2016 roku. Intel prowadzi osobne badania nad t? technologi?.
2008-02-27 03:16:00| Gery.pl
EUV lithography, czyli Extreme Ultra-Violet lithography to nowa technologia produkcji uk?adów scalonych, która b?dzie musia?a zosta? wprowadzona do u?ytku je?li przysz?e tranzystory maj? osi?gn?? wymiary rz?du 22 czy 16 nanometrów. Obecnie stosowany proces fotolitografii wykorzystuje ?wiat?o UV o d?ugo?ci 193 nm, co dzi?ki odpowiednim zabiegom pozwala na produkowanie mikroprocesorów w wymiarze 45 nm i zapewne pozwoli równie? na zej?cie do 32 nm. Kolejna bariera mo?e wymaga? jednak zastosowania w?a?nie technologii EUV, która wykorzystuje fale o d?ugo?ci zaledwie 13.5 nm. Zademonstrowany przez AMD i IBM uk?ad to procesor AMD wykonany w wymiarze technologicznym 45 nm. Wed?ug przewidywa? obu firm, pierwsze uk?ady produkowane przy u?yciu EUV w wymiarze technologicznym 22 nm powinny pojawi? si? w okolicach 2016 roku. Intel prowadzi osobne badania nad t? technologi?.
Strony : [1] [2] [3] [4] [5] [6] [7] [8] [9] [10] [11] [12] [13] [14] następna »